Модель поверхности Si(111)7×7
Модель поверхности Si(111)7×7 (англ. DAS model) — модель димеров-адатомов и дефекта упаковки.
ОписаниеПравить
Модель предложена Кунио Такаянаги в 1985 году для описания реконструкции атомарно чистой поверхности Si(111)7×7. Элементарная ячейка реконструкции 7×7 состоит из угловой ямки и двух треугольных подъячеек, которые разделяются димерными рядами; каждая подъячейка содержит по 6 адсорбированных на поверхности кристаллов еще не встроенных в кристаллическую решётку атомов (адатомов); атомный слой ниже слоя адатомов в одной из подъячеек находится в ориентации дефекта упаковки. Правильность этой модели была подтверждена результатами последующих многочисленных исследований.
ЛитератураПравить
- Takayanagi Kunio, Tanishiro Yasumasa, Takahashi Shigeki, Takahashi Masaetsu. Structure analysis of Si(111)-7 × 7 reconstructed surface by transmission electron diffraction // Surface Science. — 1985. — Декабрь (т. 164, № 2-3). — С. 367—392. — ISSN 0039-6028. — doi:10.1016/0039-6028(85)90753-8.
СсылкиПравить
При написании этой статьи использовался материал из распространяющейся по лицензии Creative Commons BY-SA 3.0 Unported статьи:
Зотов А. В., Саранин А. А. модель поверхности Si(111)7×7 // Словарь нанотехнологических терминов.
Это статья-заготовка по физике. Помогите Википедии, дополнив эту статью, как и любую другую. |
Это статья-заготовка о нанотехнологиях. Помогите Википедии, дополнив эту статью, как и любую другую. |