Это не официальный сайт wikipedia.org 01.01.2023

Ионно-ионная эмиссия — Википедия

Ионно-ионная эмиссия

Ионно-ионная эмиссия или вторичная ионная эмиссия — явления испускания с поверхности конденсированной среды ионов при её бомбардировке другими ионами.

Описание явленияПравить

При бомбардировке происходит распыление вещества с поверхности. Ионизация распылённых частиц может происходить как в процессе распыления, так и после — в результате электронного обмена. Образующиеся при эмиссии ионы могут быть как отрицательно так и положительно заряженными и находиться как в основном, так и в возбуждённом состояниях. В пучке могут присутствовать многозарядные ионы, а также молекулярные ионы (например, при бомбардировке металла в атмосфере кислорода возможно образование ионов оксида металла и оксида бомбардирующего элемента). Кроме того, наблюдается образование кластерных ионов, то есть заряженные скопления большого количества атомов (например, W 34 +  ).

Эффективность эмиссииПравить

Для характеристики эффективности ионно-ионной эмиссии использует величины S ±  , равные отношению потока вторичных ионов данного типа к потоку первичных ионов. Для повышения величины S +   используют электроотрицательные газы (например, в присутствии кислорода S +   увеличивается на несколько порядков). В то же время для многозарядных ионов и ионных кластеров зависимость эффективности эмиссии от давления электроотрицательного газа может быть более сложной, иметь максимумы и минимумы. Аналогично электроположительные газы (например, цезия) увеличивают эффективность эмиссии отрицательных ионов.

Ионно-ионная эмиссия носит пороговый характер по отношению к энергии бомбардирующих ионов: при малых энергиях эмиссия отсутствует. Для начала эмиссии обычно необходима энергия порядка нескольких десятков эВ. С ростом энергии ионов эффективность эмиссии растёт.

Эффективность эмиссии зависит также от угла бомбардировки. Для монокристаллических мишеней эта зависимость немонотонна. S +   достигает минимума для таких углов, для которых направление падения ионов совпадает с направлением низкоиндексных кристаллографических осей.

Коэффициент S +   растёт с увеличением массы бомбардирующих ионов, за исключением тех ионов, которые химически активны по отношению к элементам мишени. В то же время S +   немонотонно убывает с ростом массы атомов мишени и увеличивается с уменьшением их потенциала ионизации.

Зависимость S +   от температуры мишени носит сложный немонотонный характер. Особо существенные изменения наблюдаются при фазовых переходах.

Теория явленияПравить

Выделяют две основных теории ионно-ионной эмиссии. Согласно первой из них, в основе явления лежит кинематический механизм: ион (или возбуждённая частица) образуется в результате каскада межатомных столкновений, а ионизация объясняется оже-эффектом. Согласно второй теории, ионизация испущенной частицы происходит в результате электронного обмена с поверхностью мишени.

Обменная теория даёт следующее выражение для вероятности ионизации:

R + = 2 π exp [ π I Φ 2 γ π c v cos ϑ ]  

где I   — энергия ионизации распыляемой частицы, Φ   — работа выхода материала мишени, v   — скорость первичной частицы, ϑ   — угол между направлением v   и нормалью к поверхности, γ   — величина, характеризующая протяжённость взаимодействия атома с поверхностью (обычно эта велина порядка 0,1 нм), коэффициент c > 1   характеризует уменьшение разности ( I Φ )   за счёт сил электрического изображения. Для отрицательно заряженных ионов выражение для вероятности ионизации аналогично с заменой ( I Φ )   на ( Φ A )  , где A   — энергия сродства к электрону.

ИспользованиеПравить

Ионно-ионная эмиссия используется в так называемой вторично-ионной масс-спектроскопии для исследования состава и структуры поверхности твёрдого тела и распределения элементов по его глубине.

ЛитератураПравить